Neurological Surgery 脳神経外科31巻10号

2003年10月発行

研究

イオンビーム照射によるePTFE人工硬膜の改良

著者： 高橋範吉¹ 氏家弘² 鈴木嘉昭¹ 岩木正哉¹ 堀智勝²

所属機関： ¹理化学研究所先端技術開発支援センタービームテクノロジーチーム ²東京女子医科大学脳神経外科

ページ範囲：P.1081 - P.1088

Ⅰ．はじめに
　脳外科手術の際，代用硬膜として凍結乾燥ヒト硬膜が盛んに用いられていたが，クロイツフェルト・ヤコブ病（CJD）の感染源となる危険性があった．1987年，脳外科手術時に使用した凍結乾燥ヒト硬膜によるCJD発症例が初めて報告され^19，27），日本でも凍結乾燥ヒト硬膜によるCJD発症例が相次いだ．日本では1997年に使用が禁止され，この時点の調査では国内の凍結乾燥ヒト硬膜によるCJD感染例は43例に達した^7）．現在，代用硬膜としてexpanded polytetrafluoroethylene（ePTFE）が広く使用されている^29）．ePTFEはpolytetra—fluoroethylene（PTFE）を延伸加工したもので，その分子構造はフッ素原子が炭素原子鎖を均一に覆って保護する形になっているため，ポリエチレン，ポリプロピレン，ホリスチレン等と違い，生体内で化学的に非常に安定であり，また組織との反応性が極めて低い．そのため，人工血管^9,20），人工心膜^1），人工腹膜^13），歯周組織再生誘導法における遮蔽膜^5）等，生体材料として広く使用されている．